Die NexWafe GmbH ist ein 2015 gegründetes Technologieunternehmen, das sich auf die Entwicklung und Produktion von monokristallinen Siliziumwafern für die Photovoltaikindustrie spezialisiert hat. Das Unternehmen nutzt ein patentiertes epitaktisches „EpiWafer“-Verfahren, welches die direkte Abscheidung von Silizium aus der Gasphase ermöglicht und traditionelle, energieintensive Prozesse ersetzt. NexWafe adressiert sowohl terrestrische Solarmärkte als auch spezialisierte Anwendungen in der Raumfahrt, wie etwa für Satelliten. Derzeit befindet sich das Unternehmen in einer intensiven Aufbau- und Investitionsphase zur Skalierung seiner industriellen Fertigung am Standort Bitterfeld.
Die Entwicklung von Prozessen und Anlagen zur Herstellung und Bearbeitung von Halbleitermaterialien die Lizenzierung der obigen Prozesse und Anlagen, der Bau der obigen Anlagen und die Herstellung und Bearbeitung von Halbleitermaterialien sowie damit zusammenhängende Tätigkeiten.
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Quelle: Handelsregister Amtsgericht Freiburg, HRB 713117 (Stand 27. September 2026)
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Quelle: Unternehmensregister
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